Материјал термичког поља за раст кристала силицијум карбида – порозни тантал карбид

Семицера Семицера обезбеђује специјализоване премазе од тантал карбида (ТаЦ) за различите компоненте и носаче.Семицера Семицера водећи процес премазивања омогућава премазима од тантал карбида (ТаЦ) да постигну високу чистоћу, стабилност високе температуре и високу хемијску толеранцију, побољшавајући квалитет производа СИЦ/ГАН кристала и ЕПИ слојева (ТаЦ пријемник обложен графитом), и продужава животни век кључних компоненти реактора.Употреба ТаЦ премаза од тантал карбида је да се реши проблем ивица и побољша квалитет раста кристала, а Семицера Семицера је пробој решила технологију премаза тантал карбида (ЦВД), достигавши међународни напредни ниво.

Након година развоја, Семицера је освојила технологијуЦВД ТаЦзаједничким напорима одељења за истраживање и развој.Лако се јављају дефекти у процесу раста СиЦ плочица, али након употребеТаЦ, разлика је значајна.Испод је поређење вафла са и без ТаЦ, као и делова Симицере за раст монокристала