Семицера обезбеђује специјализоване премазе од тантал карбида (ТаЦ) за различите компоненте и носаче.Семицера водећи процес премазивања омогућава премазима од тантал карбида (ТаЦ) да постигну високу чистоћу, високу температурну стабилност и високу хемијску толеранцију, побољшавајући квалитет производа СИЦ/ГАН кристала и ЕПИ слојева (ТаЦ пријемник обложен графитом), и продужава животни век кључних компоненти реактора. Употреба ТаЦ премаза од тантал карбида је да реши проблем ивице и побољша квалитет раста кристала, а Семицера је пробој решила технологију премаза тантал карбида (ЦВД), достигавши међународни напредни ниво.
Са појавом 8-инчних плочица од силицијум карбида (СиЦ), захтеви за различите полупроводничке процесе постали су све строжи, посебно за процесе епитаксије где температуре могу да пређу 2000 степени Целзијуса. Традиционални материјали суцептора, као што је графит обложен силицијум карбидом, имају тенденцију да сублимирају на овим високим температурама, ометајући процес епитаксије. Међутим, ЦВД тантал карбид (ТаЦ) ефикасно решава овај проблем, издржавајући температуре до 2300 степени Целзијуса и нуди дужи радни век. Контакт Семицера's Тантал карбид ТаЦ ЦВД премаз Вафер Сусцепторда истражите више о нашим напредним решењима.
са и без ТаЦ
Након употребе ТаЦ (десно)
Штавише, СемицераПроизводи обложени ТаЦ-омпоказују дужи век трајања и већу отпорност на високе температуре у поређењу саСиЦ премази.Лабораторијска мерења су показала да нашаТаЦ премазиможе конзистентно да ради на температурама до 2300 степени Целзијуса током дужег периода. Испод су неки примери наших узорака:
