Алат графита обложен силицијум карбидом за епитаксију

Алат за графит обложен силицијум-карбидом за истакнуту слику

Кратак опис:

Семицера нуди свеобухватан асортиман суцептора и графитних компоненти дизајнираних за различите епитаксијске реакторе.

Кроз стратешко партнерство са водећим произвођачима оригиналне опреме у индустрији, опсежну експертизу у вези са материјалима и напредне производне могућности, Семицера испоручује дизајн по мери да испуни специфичне захтеве ваше апликације. Наша посвећеност изврсности осигурава да добијете оптимална решења за потребе вашег епитаксијског реактора.

Пошаљите нам емаил

Детаљи о производу

Ознаке производа

Опис

Наша компанија пружа услуге обраде СиЦ премаза ЦВД методом на површини графита, керамике и других материјала, тако да специјални гасови који садрже угљеник и силицијум реагују на високој температури да би добили молекуле СиЦ високе чистоће, молекуле депоноване на површини обложених материјала, формирајући СИЦ заштитни слој.

о (1)

о (2)

Главне карактеристике

1 .СиЦ обложен графит високе чистоће

2. Врхунска отпорност на топлоту и термичка униформност

3. Фини СиЦ кристал обложен за глатку површину

4. Висока издржљивост против хемијског чишћења

Главне спецификације ЦВД-СИЦ премаза

СиЦ-ЦВД својства
Цристал Струцтуре	ФЦЦ β фаза
Густина	г/цм ³	3.21
Тврдоћа	Викерсова тврдоћа	2500
Величина зрна	μм	2~10
Хемијска чистоћа	%	99,99995
Хеат Цапацити	Ј·кг-1 ·К-1	640
Температура сублимације	℃	2700
Фелекурал Стренгтх	МПа (РТ 4 тачке)	415
Иоунгов модул	Гпа (4пт савијање, 1300℃)	430
термичка експанзија (ЦТЕ)	10-6К-1	4.5
Топлотна проводљивост	(В/мК)	300