СиЦ ЦоатедГрафит Халфмоон Партје кључна компонента која се користи у процесима производње полупроводника, посебно за СиЦ епитаксијалну опрему. Користимо нашу патентирану технологију да направимо део полумесеца са изузетно високом чистоћом, добром униформношћу премаза и одличним веком трајања, као и високом хемијском отпорношћу и својствима термичке стабилности.
